半导体洁净环境
面向半导体洁净室、精密电子制造和超高洁净等级环境的颗粒监测。
| 型号 | 采样流量 | 最小检测粒径 | 粒径通道 / 功能 |
|---|---|---|---|
| NW-101X Pro | 2.83 L/min | 0.1 μm | 0.1 μm0.15 μm0.2 μm0.25 μm0.3 μm0.5 μm1.0 μm5.0 μm |
| NW-110X Pro | 28.3 L/min | 0.1 μm | 0.1 μm0.15 μm0.2 μm0.25 μm0.3 μm0.5 μm1.0 μm5.0 μm |
面向检测标准或监测方案明确要求从0.1 μm开始监测的半导体洁净室、精密电子制造及超高洁净环境,提供2.83 L/min和28.3 L/min两种固定流量型号,并支持区域、房间、点位、采样任务和记录管理。
面向半导体洁净室、精密电子制造和超高洁净等级环境的颗粒监测。
适用于检测标准或监测方案明确要求从0.1 μm开始记录的场景,提供8个粒径通道。
提供2.83 L/min和28.3 L/min型号,按目标采样体积、点位数量和监测节拍选型。
标准配置包含区域、房间、点位、采样任务、记录查询和数据输出;蓝牙针式打印机和扫码枪为选配,其他特殊需求可按项目评估定制。